|
|
Комплектующие и расходные материалы включают магнетроны различных конфигураций: протяжённые, круглые, предназначенные для генерации плазмы https://atomstroy-ng.ru/dopoborudovanie
Источники ионов, доступные в протяжённых и круглых вариантах, которые используются для ионизации газа в процессах плазмохимического травления и напыления https://atomstroy-ng.ru/ustanovkahimobrabotki
Нагреватели, необходимые для контроля температурных условий во время производственных операций https://atomstroy-ng.ru/ruchnyeultrazvuklinii
Корпусные и бескорпусные диски для резки кремния, арсенида галлия, фосфида галлия, кварца и других материалов https://atomstroy-ng.ru/dopoborudovanie
Полуавтоматическая установка для равномерной сушки фоторезиста https://atomstroy-ng.ru/ustanovkahimobrabotki
Автоматизированная система ионно-лучевого послойного травления на полупроводниковых пластинах (до 300 мм) для подготовки образцов к CD-SEM (Critical dimensions SEM, контроль критических размеров в сканирующем электронном микросокопе).
Раскладная вакуумная печь https://atomstroy-ng.ru/ustanovkatravleniya
Гарантия: 12 месяцев https://atomstroy-ng.ru/mikroelektronika
Данные печи предназначены для высокотемпературной обработки полупроводниковых пластин и подложек диаметром 150 мм и могут применяться для различных процессов в условиях как лабораторного, так и мелкосерийного производства https://atomstroy-ng.ru/ustanovkadlyazadubleniya
Загрузка подложек в рабочую https://atomstroy-ng.ru/ruchnyeultrazvuklinii
|
|
发表于